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http:///1、Accuracy（準(zhǔn)確度）
衡量測量值與‘真值’接近程度的量度。注意，任何基于未知樣品與標(biāo)樣相比較來進(jìn)行 分析測量的方法，其準(zhǔn)確度不可能高于標(biāo)樣本身的準(zhǔn)確度。因此原子吸收測量的準(zhǔn)確度 依賴于所制備標(biāo)樣及樣品的準(zhǔn)確程度。干擾也會(huì)對(duì)準(zhǔn)確度造成影響。
2、Aerosol （霧汽）
由霧化器所產(chǎn)生的很細(xì)的霧滴。
3、Analyte （被分析元素）
所要檢測的元素。
4、Atomic Absorption （原子吸收）
是一種基于原子對(duì)光產(chǎn)生吸收進(jìn)行元素分析的技術(shù)。當(dāng)原子吸收過程發(fā)生時(shí)，原子的電 子發(fā)生躍遷，到較高能級(jí)，成為激發(fā)態(tài)。
5、Atomic Emission（原子發(fā)射）
是一種基于激發(fā)態(tài)原子向基態(tài)原子回遷釋放能量（產(chǎn)生發(fā)射光）進(jìn)行元素分析的技術(shù)。
6、Atomization（原子化）
是將被分析元素或其化合物轉(zhuǎn)換成原子蒸汽的過程。
7、Blaze（閃爍）
為光柵刻線的形狀，決定波長與相應(yīng)能量的分配。
8、Blaze Angle（閃耀角）
光柵的閃耀角決定散射光Z大光強(qiáng)波長。
9、Blaze Wavelength（閃耀波長）
光柵散射Z大強(qiáng)度波長。
10、Calibration（校正）
建立分析校正曲線圖，該圖描述了被分析元素濃度與吸光度之間的關(guān)系。在原子發(fā)射中 ，則為發(fā)射強(qiáng)度與濃度之間的關(guān)系。
11、Calibration Blank（校正空白）
為空白溶液，該溶液中不人為加入某一已知濃度的被分析元素。通常該空白溶液應(yīng)與其 它標(biāo)樣保持相同基體，因而其測量值代表所使用試劑的污染程度。用于校正。
12、Characteristic Concentration（特征濃度）
為被分析元素產(chǎn)生 0.0044 （1 % ）吸光度所需濃度。不同的儀器，特征濃度不一 樣。 可按下列公式計(jì)算：
Char. Conc. = （標(biāo)樣濃度 * 0.0044） / 平均吸光度
（通常在校正曲線線性范圍內(nèi)測，如<0.2ABS）
13、Characteristic Mass（特征質(zhì)量）
在石墨爐分析中，按峰高計(jì)算，被分析元素產(chǎn)生0.0044吸光度所需質(zhì)量（以皮克為單位 ）。可按下公式計(jì)算：
Char. Mass = （標(biāo)樣濃度 * 0.0044 * 進(jìn)樣體積） / 標(biāo)樣吸光度
14、Chemical Modifier（基體改進(jìn)劑）
基體改進(jìn)劑是加在樣品中的一種試劑，作用是用化學(xué)的方法改變樣品的基體組成，以改 變被分析元素的揮發(fā)性和/或基體結(jié)構(gòu)，降低干擾，或?qū)⒈环治鲈匾蕴囟ㄐ螒B(tài)隔離出來，從而分離出背景信號(hào)和被分析元素的原子吸收信號(hào)。對(duì)復(fù)雜基體，基體改進(jìn)劑可在原 子化階段增強(qiáng)原子吸收信號(hào)和/或降低背景信號(hào)。理想的基體改進(jìn)劑，兼?zhèn)鋬烧叩墓δ堋?
15、Coefficient of Variation（變異系數(shù)）
多次測量的重復(fù)性或精密度。通常用相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差% RSD 來表示。即為標(biāo)準(zhǔn)偏差除以平 均值（百分?jǐn)?shù)）。
16、Desolvation（脫溶）
霧汽干燥，溶劑蒸發(fā)，形成干的微小固體顆粒的過程。
17、Detection Limit（檢出限）
在某一波長下測量某一被分析元素的空白溶液的濃度，所得多次測量值標(biāo)準(zhǔn)偏差的司倍 即為該被分析元素在該波長下的檢出限。這是儀器所能檢出的高于背景噪聲的Z低限。
在檢出限附近，因測量精度一般較差，％RSD在33％以上。因此要進(jìn)行較準(zhǔn)確的測量是 不可能的。所以，正常測量因至少在高于檢出限5－10倍的濃度范圍進(jìn)行，此范圍內(nèi)測量精度可達(dá)3－5％。
18、Digestion（消解）
將固態(tài)樣品用酸轉(zhuǎn)化成液體形態(tài)的過程。
19、Dynode（打拿極）
光電倍增管信號(hào)放大的中間級(jí)。
20、Emission（發(fā)射）
原子能級(jí)躍遷所釋放出的能量。
21、Emission Intensity（發(fā)射強(qiáng)度）
發(fā)射時(shí)產(chǎn)生譜線（光）強(qiáng)弱的度量。
22、Excitation（激發(fā)）
原子由于碰撞、被加熱或光線照射而吸收能量的過程。當(dāng)發(fā)生激發(fā)時(shí)，原子的外層電子躍遷到較高能級(jí)。該原子成為激發(fā)態(tài)原子。
23、Filter（濾光片）
是一種衰減如射輻射能量的材料。是選擇某一波長范圍的方法。
24、Grating Density（光柵密度）
光柵上每單位長度中的刻線條數(shù)。通常用線/毫米來描述。
25、Grating Diffraction（衍射光柵）
為一光學(xué)器件，帶有一鏡面，上可有距離相等的一系列刻線，具衍射分光作用。 通常稱光柵。
26、Ground State（基態(tài)）
原子能量Z低，Z穩(wěn)定狀態(tài)。基態(tài)原子中的電子都處于其Z底能級(jí)。
27、Holographic Grating（全息光柵）
采用全息照相技術(shù)生產(chǎn)出來的光柵。具較小雜散特性。
28、Hydride Generation（氫化物發(fā)生器）
是一種使被分析元素與還原劑（通常為硼氫化鈉）發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，產(chǎn)生揮發(fā)性氫化物，然后通到石英池加熱還原成自由基態(tài)原子的技術(shù)。
29、Interference（干擾）
任何影響吸收值正常測量的化學(xué)及物理效應(yīng)。
30、Ionization（離子化）
為中性原子失去電子或得到電子而成為帶電荷離子的過程。
31、Linear Dispersion（線性色散）
光柵對(duì)不同波長分光的程度，用微分式來描述： dx/dg, 其中：
x = 光譜長
g = 波長
單位為： mm/nm.
32、Linear Dynamic Range（線性動(dòng)態(tài)范圍）
校正曲線線性范圍內(nèi)，濃度的范圍。原子吸收中，一般可達(dá)102 - 103.
33、Magnetic Sensitivity Ratio （MSR）（磁場靈敏度比）
塞曼吸收與正常吸收的百分比。 用來確定塞曼石墨爐法分析中被分析元素靈敏度的損失程度。MSR 為100 %表明該元素?zé)o靈敏度損失。 計(jì)算公式如下：
MSR = 磁場ON時(shí)吸光度 * 100/ 磁場Off時(shí)吸光度
34、Matrix（基體）
樣品中的主要化學(xué)成分。
35、Matrix Matching（基體匹配）
在分析中為克服樣品基體對(duì)結(jié)果的影響，將標(biāo)樣制備成與樣品基體一樣的標(biāo)樣。
36、Matrix Interference（基體干擾）
非譜線性質(zhì)干擾，是由于樣品與標(biāo)樣的基體不同而引起的差異。如樣品與標(biāo)樣的表面張力或黏度不同而產(chǎn)生的干擾。
37、Maximum Absorbance（Z大吸光度）
在塞曼吸收中，對(duì)某一特定波長，所允許的Z大峰高值。 超過該值時(shí)，就可能發(fā)生曲線下彎現(xiàn)象。
38、Monochromator（單色器）
為光學(xué)器件，用來從光譜中分離出有用的窄波長。
39、Nebulizer（霧化器）
將溶液轉(zhuǎn)化成霧狀霧汽的裝置。
40、Precision（精密度）
對(duì)同一樣品進(jìn)行多次測量的重復(fù)性，通常用相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差%RSD來表示，或用變異系數(shù)CV來表示。
41、Reagent Blank（試劑空白）
不加被分析元素的溶液，通常與樣品具有相同基體，以消除試劑污染的影響。
42、Resolution（分辨率）
表示光譜儀分離相鄰波長的能力。
% RSD
相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差。
% RSD = （標(biāo)準(zhǔn)偏差* 100） / 平均吸光度
43、Spectrometer（光譜儀）
按波長分離，測量光的光學(xué)儀器。
44、Spectral Interference（光譜干擾）
由于分辨率不夠，相鄰波長未*分離，造成譜線重疊，從而可能對(duì)測量結(jié)果產(chǎn)生影響。
45、Spray Chamber（霧化室）
安裝在霧化器與燃燒頭之間的器件，用來濾除較大霧滴，并使樣品與氣體混合。
46、Standard Additions（標(biāo)準(zhǔn)加入）
該方法可克服由于樣品與標(biāo)樣基體不同而造成的誤差。因標(biāo)樣被加入到樣品中，兩者的基體基本一致。如采用化學(xué)基體改進(jìn)劑方法無法消除干擾時(shí)可考慮采用該方法。
47、Standard Deviation（標(biāo)準(zhǔn)偏差）
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